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NTE-4000 (A) 全自动热蒸发系统
NTE-4000是一个独立式热蒸发系统,提供更多的空间可用于支持额外的能力,如共蒸发、双蒸发以及溅射等。NTE-4000(A)全自动蒸发系统是一个紧凑型系统,跟我们的溅射系统共享一个共同的平台
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NTE-3500 (A) 全自动热蒸发系统
NTE-4000 基于PC计算机全自动控制的独立系统NTE-3500 基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立系统NTE-3000 基于PC计算机全自动控制的双蒸发源台式系统NTE-1000
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NTE-4000 (M) 热蒸发系统
计算机控制的单蒸发源台式系统 NANO-MASTER NTE-4000是一款PC计算机控制的台式热蒸发系统,在有机物和金属沉积方面具有广泛的应用。 最大可支持7”的方片或200mm的晶圆片
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NSC-4000 (A) 全自动磁控溅射系统
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NPE-4000 (ICPA) 全自动等离子体化学气相沉积系统
产生偏压。 立式ICPECVD系统不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7Torr全自动上下载片,带预真空锁ICP离子源高达6”(150mm)直径的样品台RF射频偏压样品台水冷样品台可加热到的800
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NPE-4000 (A) 全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统
。 立式系统自动上下载片,带预真空锁不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrRF淋浴头,HCD或微波等离子源高达6”(150mm)直径的样品台RF射频偏压样品台水冷样品台可加热到的800
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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
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NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
,非常方便腔体的访问和清洁。该系统拥有一个载气舱包含多达7个50ml的加热汽缸,用于前驱体以及反应物,同时带有N2或者Ar作为运载气体的快脉冲加热传输阀。
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