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ESI Prepfast S半导体行业高纯物质进样系统
自动进样系统,可用于ICP-MS直接分析高纯化学品。PrepFAST S 系统使用内置的注射泵驱动超纯水、高纯硝酸和自动添加溶液来自动准备ICP-MS分析的的样品和标样。PrepFAST S--半导体
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质谱仪 ICP-MS100
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美国热电ICP-MS
和Infinity II型离子透镜技术,以chicane离子偏转装置的六极杆设计为基础,提供最低的背景噪声。 符合人机工效学设计的四极杆ICP-MS,其所用空间甚至小于一些AAS系统。创新的保护性
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美国热电ICP-MS
等离子体状态高稳定性的同位素比 ICP-MS是获得认可的痕量元素分析和定量的高效技术。 其应用范围从半导体工业到地质和环保分析、从生物研究到材料科学。 ICP-MS最严重的限制是元素信号的多原子干扰
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标准测力杠 标卓牌
一、产品介绍:标准测力杠杆是根据JJG157-93《小负荷材料试验机检定规程》和JJG 808-2014_标准测力杠杆有关示值检定用标准测力杠杆加荷法的要求而设计制造的,具有精度高、稳定可靠
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LC-ICP-MS形态分析解决方案LC-ICP-MS联用系统
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Plasma 3 MC-ICP-MS
Plasma 3是第三代多收集器ICP质谱仪(MC-ICP-MS),旨在为同时同位素离子检测提供zei佳的精度和准确性。该仪器保留了独特的,zl的可变色散变焦镜头,可同时测量从十六个法拉第检测器和
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Agilent 7850 ICP-MS 质谱仪
双电荷离子干扰,使方法开发更简单,并解决了导致费时的样品重新测量的常见问题。了解 Agilent 7850 ICP-MS 如何提高实验室效率,助您夺回浪费的时间。特性:标准操作规程以及用于法规和常规
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major science 搅拌水浴
产品参数:产品型号SWB-20L-1SWB-20L-3 搅拌磁石数量13 搅拌转速400 ~ 1500rpm (以%设定)水浴槽容量约20升显示器LCD加热功率800W控制器数字式微处理器控制器
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Winpact恒温气升式反应槽
温度控制8-80℃溶氧控制0-100%PH控制范围2-10,精度0.01通气系统带四路气体混合仪的通气系统罐体容积Max.5L产地类别进口 气升式反应槽适用于需使用混合气体功能的
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