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ICP的雾化室,相信大家都不陌生,主要给气溶胶达到等离子体前提供区域,气溶胶微粒快速地去溶、蒸发和原子化,雾化器必须产生小于10 um 直径的雾滴。大于这个直径规格的就当废液从废液管流出,大家是如何理解这个直径规格要求的?,直径规格要求
2015年07月19日发布人:ayanyang
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[size=2][color=DarkRed][font=黑体]标签:尼高力 镜片
[/font][/color]
我的红外光谱仪尼高力IN10的分束器坏了,用哪位大侠指点下怎么维修,工程师说是不明气体分子污染镜片导致分束器损坏
2014年09月09日发布人:xuuuu
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最近一直在做关于氯硅烷中痕量磷杂质分析的试验,工作做了不少,但是结果,说老实话,并不令人满意。
而和国内拥有某电子级三氯氢硅生产专利的厂家交流,也未得到积极的回应,很失望。(说明一下,电子级三氯氢硅国家标准和电子级三氯
2014年07月28日发布人:vbnm
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本人最近按照新药典方法检测头孢西丁有关物质,遇到问题难以解决!主峰前有一个大杂质峰不能分离,不但本产品如此,其他厂家以及进口产品也是如此,见附图。
色谱条件如下:
用苯基键合硅胶为填充剂;
流动相A为水(用无水甲酸调pH至2.7
2010年07月12日发布人:home2001
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吸水?
常用雷尼镍,从未有过这样的操作,加压啊 不用干燥剂,反应会产生水,这个水不会阻碍反应的进行吗?怎么我看到的好多文献上都要加硫酸镁呢?还有就是如果有盐酸三乙胺盐存在会不会使催化镍或钯中毒啊,指硫酸镁吗?不用硫酸镁用什么?用分子筛吗?,不用加干燥,催化剂正
2014年07月10日发布人:ass
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:室温 主峰保留时间:48min左右 主峰高500mUA左右,宽3min~4min左右
大家看看我的图,前面的杂质峰咋这么多呢,而且基线也一直不平,平衡柱子的时候基线是平的,之前样品是经过制备HPLC分过的,所以问两个问题
2011年10月09日发布人:panxiang8871
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的原因吗?,是的,实验室检测的方法没错,后面酒精不添加了,检验也就合格了,但是后来的口味却改变不了,很苦啊!!,是否确认是乙醇致阿奇霉素产生杂质?有否反应机理?
是否是乙醇本身带入的杂质?,加乙醇制粒就不苦了吗?有意思
一般来说
2014年02月08日发布人:但是
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[size=2]维格列汀二取代杂质怎么解决??[/size],[size=2]我现在二取代的杂质根据HPLC面积归一化法测定能够降低到1.5%左右,你需要降低到多少?目前我还在为减少杂质含量在努力中。。。[/size],[size=2
2016年02月15日发布人:@STAR@
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哪位大侠知道谱尼的怎样毕业一年的硕士能拿多少?上海的,毕业一年硕士,4000吧,这个行业都差不多,但是,很难有很大的增长,除非当上主管。,你是去北京的还是上海的普尼?,据我所知,你要6000,他就会给你5500,你要5000,他就会给你4500,你看着办吧。
但好像普尼好像留不住人,不知道为什么。
2008年11月06日发布人:lzjhappy.ok
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现在很多EP,USP甚至CH.P的标准,都有用主成分峰的保留时间进行定位其它杂质的方法,但是实际工作中由于各个实验条件的差异,很难用相对保留时间完美的定性出特定的杂质,这就给结果的计算造成了困难。比如我主峰的保留时间是10min,他的杂质
2011年04月11日发布人:yanyu9808