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NPE-4000 (ICPA) 全自动等离子体化学气相沉积系统
°C样品台加热的气体管路加热的液体传送单元抗腐蚀的涡轮分子泵组最大可支持到8MFC基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动,4级密码访问保护完整的安全联锁
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NPE-4000 (A) 全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统
°C样品台加热的气体管路加热的液体传送单元抗腐蚀的涡轮分子泵组最大可支持到8MFC基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动,4级密码访问保护完整的安全联锁
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NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统
加热的液体传送单元抗腐蚀的涡轮分子泵组1路载体气体以及3路反应气体,带MFC基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动,4级密码访问保护完整的安全联锁
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NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统
抗腐蚀的涡轮分子泵组1路载体气体以及3路反应气体,带MFC基于LabView软件的PC计算机全自动控制菜单驱动,4级密码访问保护完整的安全联锁
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN
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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN
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NRE-4000 (A) 全自动反应离子刻蚀
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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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