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赛默飞 Lumina 荧光光度计
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赛默飞 Lumina 荧光光度计
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赛默飞 Lumina 荧光光度计
半个世纪以来,世界各地实验室一直依赖 Thermo Scientific 分光光度计对水、品质控制、在各个临床机构和教学实验室中进行快速、简便的测定。
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Gatan 精密刻蚀镀膜系统PECS II 685
ALT 327,为 ALTO 冷冻扫描电镜系统而设计的撞击式冷冻制样设备,提供了样品载体和样品载台,它们可以放置在 ALTO 2500 冷冻工作站或ALTO 1000 的液氮泥加工站中*。
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀
速率腔刻蚀、高深宽比工艺和锥形通孔刻蚀,不需要更换腔室硬件就可以实现。硬件设计使同一腔室中可进行Bosch™和超低温刻蚀工艺,使得纳米和微米结构刻蚀均可实现兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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JBX-9500FS电子束光刻系统
JBX-9500FS 电子束光刻系统JBX-9500FS是一款100kV圆形束电子束光刻系统,兼具世界zei高水平的产出量和定位精度,zei大能容纳300mmφ的晶圆片和6英寸的掩模版,适合纳米压印
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JBX-3200MV电子束光刻系统
JBX-3200MV 电子束光刻系统JBX-3200MV是用于制作28nm~22/20nm节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速
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JBX-6300FS 电子束光刻系统
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形
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