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薄膜沉积系统PICOSUN™R-200高级型
薄膜沉积系统PICOSUN™R-200高级型 技术参数:衬底尺寸和类型 50-200 mm/片 156 mm x 156 mm 太阳能硅片 3D 复杂表面衬底 粉末与颗粒 小批量 多孔,通孔
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
适配器安装尺寸W1000 x D700 x H900 SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积
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快速热化学气相沉积系统(RTCVD)
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NLD-4000(ICPM)PEALD原子层沉积系统
%温度:200°C折射率:1.67 原子层沉积技术 NLD-4000(ICPM)PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
聚合物薄膜的沉积;在同一室的附加沉积源(可选): 脉冲电子沉积(PED),射频/直流溅射和直流离子源;Load-lockable衬底阶段;与XPS分析系统集成,直接将晶片从PLD系统转移到分析系统
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SUPERALD 原子层沉积 等离子增强系统 PEALD
设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路
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WCS-3000水质五参数自动监测仪
产品概述综合技术参数技术指标技术参数技术指标技术参数显示屏7" TFT触摸屏,LED背光工作环境(5-45)℃,(0-95)%RH显示尺寸(154×86)mm防护等级IP65分辨率800×480
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吉时利参数测试系统
探伤仪,医学检测仪器,涂镀层测厚仪,玩具测试仪器,光学测试仪器,精密分析天平,高压电力测试仪,色谱仪,试验机,测试软硬件方案,测试仪器系统集成。 S530参数测试系统专为必须处理多种设备和技术的生产和
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脉冲电子束沉积系统 Pioneer 180 PED System
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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