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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统 双样品台
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日本电子JIB-4000 聚焦离子束加工观察系统 研磨
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S8000G型镓离子聚焦离子束双束扫描电镜可满足现今工业研发和学术界研究的所有需求
用于导电材料沉积,SiOx用于绝缘材料沉积,XeF2、H2O等用于增强刻蚀,或其它定制气体。新一代Essence™操作软件,更简单、高效的操作平台S8000可配置最新的多种探测器新操作软件极大简化
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EscaLab Xi+ X射线光电子能谱仪
离子枪定位和离子束聚焦●鼠标点击式样品导航 实时显示分析位置 高照明强度、强度可调设计灵活●ISS、ARXPS与REELS为标准配置●多功能进样室为标准配置●UPS和EDS/AES
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三离子束切割仪
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KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用
工艺压力在小于× 10-4 torr离子源在离子束溅射沉积工艺过程: 上海伯东美国 KRi 射频离子源优势提供致密, 光滑, 无针孔, 耐用的薄膜远离等离子体: 低基材温度不需要偏压衬底溅射任何材料
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上海伯东美国 KRi 射频离子源 IBSD 离子束溅射沉积应用上海伯东美国 KRi 考夫曼品牌 RF 射频离子源, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的宽束离子束, 离子束轰击溅射目标, 溅射的原子(分子
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日本电子JIB-4700F聚焦离子束双束(FIB) 图像叠加(picture overlay )系统
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牛津仪器PlasmaPro 100 PECVD等离子体增强化学气相沉积系统
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