-
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 成功用于复合磁控溅射沉积装置
2021-01-14来源: 伯东企业(上海)有限公司 -
什么是半导体参数分析仪
2022-11-10来源: 互联网 -
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP380 用于铝表面溅射沉积 ZrN 薄膜
2021-01-12来源: 伯东企业(上海)有限公司 -
KRI 聚焦射频离子源 RFICP 220 辅助磁控溅射镀制 3D 玻璃膜
2020-10-14来源: 伯东企业(上海)有限公司 -
原核表达载体的重要调控元件(启动子、SD序列与终止子)
2020-09-08来源: 互联网 -
细胞化学词汇--SD序列
2022-04-07来源: 互联网 -
SD序列的作用
2022-11-28来源: 互联网 -
伯东 KRI 离子源成功应用于离子溅射镀膜 (IBSD)
2020-08-18来源: 互联网 -
皖仪科技IC6300系列智能型离子色谱仪申报ANTOP奖啦
2023-06-09来源: -
KRI 考夫曼射频离子源 RFICP140 溅射多层沉积 Nb3Sn 超导薄膜
2021-03-17来源: 互联网
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net