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3H26RI智能高速冷冻离心机
产品型号3H30RI3H26RI3H24RI3H20RI3H16RI3H12RIzei大容量4×100mlzei高转速300002600024000208001680012000zei大离心力
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OX1LP氧溶解仪
技术规格:基本组成溶解氧比色皿电极、比色皿电极放大器、磁力搅拌器、搅拌棒和O型环、KCl溶液、隔膜和过滤纸、水套用10英尺Excelon管、LabQuest Mini 数据接口、软件、操作手册
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HBD5-VOC手持式有机气体检测仪
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HASUC 真空干燥箱充HMDS气体
HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用
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HMDS基片预处理系统真空干燥箱HMDS-6090
HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用
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HASUC 带基片预处理系统真空烤箱HMDS
HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用
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HASUC 基片处理系统真空烤箱HMDS-6090
HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用
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DB-1/-2/-3不锈钢恒温电热板
型号规格电压(V)功率(KW)温度波动度(℃)最高温度(℃)外形尺寸(mm)(D*W*H)净重(Kg)DB-1400*280220V/50Hz1.5±2350540*280
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Lumenera INFINITY1-3C 310万像素CMOS显微相机
图像传感器:1/2” format, Micron MT9T001, CMOS 彩色芯片尺寸:6.5mm x 4.9mm像素大小:3.2 x 3.2μm分辨率:2048 x 1536ROI控制
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谷物水分仪PB-1D3日本KETT
的时间。考虑到该设备用于干燥设施这一特点,采取了降低干燥设施特有的电气噪音的对策,同时,为满足干燥管理的业务需要,还可连接打印机(选配件)进行输出记录。●规格PB-1D3测量方式电阻式测量对象稻谷
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