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法的自身稀释对照法和杂质对照品法控制其限量。以十八烷烷键合硅胶为填充剂;以水(用磷酸调节pH至3.5)-甲醇(44:56)为流动相;检测波长为240nm。以供试品溶液(0.4mg/ml)的稀释液(1%)为对照液,以10μg/ml的对乙酰氨基
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药物中存在着微量的硫酸盐杂质,它也是一种信号杂质,其检查原理和操作方法如下。1、检查原理药物中微量的硫酸盐在稀盐酸酸性条件下与氯化钡反应,生成硫酸钡的微粒而显白色浑浊,与一定量的标准硫酸钾溶液在相同条件下产生的硫酸钡浑浊程度比较,判定供试
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药物中存在微量的铁盐杂质可以加速药物的氧化和降解,因此需要控制铁盐杂质的限量。铁盐杂质的检查方法有两种,分别是硫氰酸盐法和巯基乙酸法。一、硫氰酸盐法1、检查原理三价铁子离在稀盐酸溶液中与硫氰酸盐作用,生成红色可溶性硫氰酸铁配合物,与一定
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氨苄西林(Ampicillin),又称氨苄青霉素,是一种β-内酰胺类抗生素,可治疗多种细菌感染。适应症包含呼吸道感染、泌尿道感染、脑膜炎、沙门氏菌感染症,以及心内膜炎。也能用于预防新生儿的B群链球菌感染,可经由口服、肌肉注射以及静脉注射给药。氨苄西林于1961年首次发现,该药列名于世界卫生组织基本药物标准清单,为基础公卫体系必备药物之一。
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可能有的原因:柱子没清洗好,甲醇,流动相都得冲,流动相有杂质,流动相的成分是否有没经过滤的,或是没过滤好的3、分析仪,检测器的问题,可以换柱子测试下还有,出的峰不规则,是单纯的有杂峰,还是峰形也不好,峰形不好的话,试着调慢流动相流速,延长出峰时间,使杂峰分离出来。
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分析背景简介 硅片是半导体制造业的基础材料,硅片表面及少量的金属污染都可能导致器件功能的失效,所以硅片表面金属杂质测试是不可或缺的步骤。VPD跟ICPMS 联用检测硅片表面金属杂质是目前最常见的一种手段。目前 VPD也是有成熟的
2023-12-05
来源: 德国耶拿分析仪器有限公司
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主要从三方面进行,第一从合成的角度控制,合适的工艺可以减少杂质的产生或者控制杂质的含量在较低的水平;第二从分离纯化的角度,开发有效的方法去除杂质或降低杂质含量;第三就是选择合适的储存条件,减少降解杂质的产生1)杂质研究和控制的理念以杂质谱分析
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药品杂质通常分为:有机杂质、无机杂质、残留溶剂。有机杂质可在药品的生产或贮存中引入,也可由药物与辅料或包装结构的相互作用产生,这些杂质可能是已鉴定或者未鉴定的、挥发性的或非挥发性的,包括起始物、副产物、中间体、降解产物、试剂、配位体和
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实际高效液相色谱梯度分析时,将杂质捕集小柱安装在梯度混合器和进样器之间,不仅能够去除流动相中的杂质,而且还可以有效去除管路和梯度混合器中的杂质,从而提高样品杂质含量测定的准确性。 原 理 图具体型号安装示意图1、相对于LC-10A
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12-24h 。 2.检査电泳槽液的凝聚现象是否消失,颗粒是否减少;如凝聚现象己得到遏止,但颗粒仍在,用74-104um〈150-200目〉滤网过滤槽液,在各工艺参数均己正常的情况下,取样做试板,如涂膜己恢复正常,说明非杂质离子所为;c测定槽液温度