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Harrick 等离子清洗机
清洗机的高 功率档设置3. 高功率型:- 自动风扇冷却- 集成真空泵开关- 清洗腔:长6.5英寸,直径6英寸,腔盖具有铰链和磁力锁, 可视窗口,可拆卸;- 1/8NPT针孔阀控制气流及腔体压力
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数据记录光功率计
4 ft.Dimensions4.4"w x 7.7"h x 1.25"dWeight10 oz. (approx.)Meter + Probe Accuracy±3%*NIST Traceable
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紫外光功率计
4 ft.Dimensions4.4"w x 7.7"h x 1.25"dWeight10 oz. (approx.)Meter + Probe Accuracy±3%*NIST Traceable
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快速退火炉
特征:基本尺寸:Up to 直径100 mm (4-inch) for AS-One 100 Up to 直径150 mm (6-inch) for AS-One 150 Small
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便携式紫外光功率计
4 ft.Dimensions4.4"w x 7.7"h x 1.25"dWeight10 oz. (approx.)Meter + Probe Accuracy±3%*NIST Traceable
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EM-KLEEN远程等离子清洗机
远程控制等离子清洗机型号:EM-KLEEN用于电子显微镜等分析仪器如SEM、FIB、TEM样品室的清洁、XPS和SIMS、ASE 系统源于劳伦斯伯克利国家重点实验室的SmartCleanTM技术
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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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PECVD沉积
”; 3x4”; 7x2”)。Minilock-Orion III用于有毒/发火PECVD工艺。沉积薄膜:氧化物、氮氧化物、氮化物、无定形硅和碳化硅。工艺气体:100%硅烷、氨、TEOS、二乙基硅烷
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等离子刻蚀ICP
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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