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等离子刻蚀ICP
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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纳优科技 NDA 200 X荧光光谱仪
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CMP系列总辐射表
主要技术参数CMP3CMP6CMP10/11CMP21CMP22ISO标准等级2级(Second Class)1级(First Class)次基准(Secondary Standard)光谱
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铜包铝拉力试验机
本机主要适用于铜包铝材料的拉伸性能测定,其采用大规模集成电路,数字化,高可靠性的材料试验仪器,综合国内外同类机型的优点,采用高稳定性负荷测量仪和先进的PWM脉宽调速系统和微处理系统,符合
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便携式铜离子计
产品参数1、测量范围:0-2.0mg/L2、最小示值:0.001mg/L3、重复性:≤2%4、精度:±5%FS±1个字5、电源电压:DC9V、50Hz JC-T-1A铜离子分析仪适用于用于
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便携式铜离子计
。消除了人为误差,因此测量分辨率大。1、微电脑,轻触式键盘,LCD液晶数字清晰显示,使用方便。2、采用分光光度的光电比色原理, 应用方便试剂,水样放入试剂反应后几分钟即可读数,数字显示铜的值,试剂包装
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Tytronics Sentinel 铜Cu离子在线监测
波长技术可补偿水样浊度对测量结果的影响光纤探头的采用,使维护工作量最小化 测量原理a. 比色分光光度法检测。通过还原剂将二价铜转化为亚铜,采用浴铜灵作为显色剂,然后进行分光光度测定,得到总铜的
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