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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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全自动翻转式振荡器(JRY-Z12
仪器简介: 翻转式振荡器适用于固体废弃物浸出毒性翻转法,是中华人民共和国环境保护行业标准《固体废物 浸出毒性方法 硫酸硝酸法》(HJ299-2007)与《固体废物 浸出毒性
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CMP系列总辐射表
主要技术参数CMP3CMP6CMP10/11CMP21CMP22ISO标准等级2级(Second Class)1级(First Class)次基准(Secondary Standard)光谱
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BioVendor Standard全自动菌落计数分析系统
■ 适用于中小型实验室,培养皿建档与菌落计数■ 顶部、底部以及顶底双侧光源,全彩LED灯与UV紫外灯■ 高清工业CMOS相机,自动对焦,500万像素
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Heidolph MR Hei-Standard磁力搅拌器
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BioVendor Standard全自动菌落计数分析系统
Standard全自动菌落分析系统■ 适用于中小型实验室,培养皿建档与菌落计数■ 顶部、底部以及顶底双侧光源,全彩LED灯与UV紫外灯■ 高清工业CMOS
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