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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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酸纯化器
。 仪器特点:纯化速度快、操作方便、大大降低酸的使用成本、反复纯化可以达到超级净化的酸或者水等仪器介绍 整套系统包括一个功率表,计时器和1L的PFA收集瓶以及两个100W的IR加热器和一个带冷凝
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蒸酸系统
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赶酸架
工作面尺寸:280*300mm. 20位,孔径:40mm(其他尺寸可定做) 具有赶酸速度快、高效、节能、方便等优点。已成功应用于国内外各个厂家的微波消解的赶酸处理。是AA
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酸纯化系统
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