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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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R820多通道研发型多肽合成仪
每一个氨基酸耦合率的科研人员使用。主要特点可同时合成1-6个不同长度,不同难度的多肽合成范围宽广,每一通道每次可合成10mg到20g的多肽搅拌采用180°上下翻转搅拌方式,反应无死角,树脂无破损,多肽
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酸纯化器
。 仪器特点:纯化速度快、操作方便、大大降低酸的使用成本、反复纯化可以达到超级净化的酸或者水等仪器介绍 整套系统包括一个功率表,计时器和1L的PFA收集瓶以及两个100W的IR加热器和一个带冷凝
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蒸酸系统
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赶酸架
工作面尺寸:280*300mm. 20位,孔径:40mm(其他尺寸可定做) 具有赶酸速度快、高效、节能、方便等优点。已成功应用于国内外各个厂家的微波消解的赶酸处理。是AA
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酸纯化系统
技术规格: 电源100 VAC +/- 10% 50/60 Hz115 VAC +/- 10% 50/60 Hz230 VAC +/- 10% 50/60 Hz功率 70 watts质量
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赶酸器
消解完成后的赶酸任务。单片微机精准控温和定时,程序升温自动调整和控制升温速率及保温功率匹配,温度控制的稳定性和准确率高。主要特点1、嵌入式软件控温技术,PID控温,温度控制稳定性和准确度高。2、炉内
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CMP系列总辐射表
主要技术参数CMP3CMP6CMP10/11CMP21CMP22ISO标准等级2级(Second Class)1级(First Class)次基准(Secondary Standard)光谱
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