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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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Tergeo等离子清洗机
Direct & downstream 清洗模式典型的应用: 引线键合倒装芯片底部填充,器件的封装和解封 光刻胶灰化、除渣、硅片清洗 PDMS/微流
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Bench-Top Plasma Tool
模块化的TT-150适合半导体MEMS,TFT,PV的2寸---6寸应用。AGS TT 等离子系统在一个平台上提供了所有的功能特征 AGS公司推出一个新型的,桌面式 TT-150—RIE
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自动分散清洗系统
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搅拌分散多用机
仪器简介:WJ-1.1搅拌分散多用机是采用国外新技术设计的新型产品,该产品集中了搅拌分散多种设备的功能于一体,具有重量轻,低噪音高转矩等特性,适用于中试小批量生产场合。该产品采用变频器无极调速
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新型分散机
价格范围:1-5千型号: SC537DISPERMAT SC系列的新型分散机SC537,是一款德国进口高速分散机。 分散机,其实就是一种高速搅拌器,能够有效对物料进行分散乳化。目前
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高度分散机
技术参数:品牌: VMA型号:SC115产地:德国功率:15最大分散容量:75 ? 750可选配套系统ATEX 防爆0/1/2真空分散模块PLC-控制系统分散机是一种能够用来对物料进行高速强烈剪切
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分散机均质机
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高速分散机
仪器简介:- 分散量为1-2500ml(H2O) - 该仪器用于污水样处理、实验室反应器、真空或压力下样品处理,以及诊断样品制备。 - 3种驱动轴承 - 标准数字显示 - 定转子配置,30年
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