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硅基底石墨烯膜
产品名称硅基底石墨烯膜硅片厚度700um硅片表面氧化硅厚度300nm硅片表面石墨烯光学形貌 硅片表面石墨烯Raman 光谱 硅基底名称规格方阻(□/sq) 备注单层石墨烯膜1cm
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石墨烯CVD制备设备
热电偶法兰及支撑304不锈钢快速水冷法兰,长期水冷无腐蚀,一个卡箍就能完成法兰的连接,放取物料方便快捷可调节法兰的支撑,平衡炉管的受力支撑。包含进气,出气,真空抽口针阀,KF密封圈及卡箍组合,4个密封
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铜基底石墨烯膜
产品名称铜基底石墨烯膜铜基底参数纯度:99.95%厚度:50 微米铜箔表面石墨烯SEM 图片 石墨烯拉曼光谱铜基底参数纯度:99.95%厚度:50 微米铜基底名称规格方阻(□/sq) 备注单层
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CAS24 小型502熏显柜
风机提供额外的过滤保护● 过滤器和相关电子部件位于工作台上方,消除外部化学物质进入工作区的可能性 行业应用CAS24 小型502熏显柜适用于刑侦案件的指纹提取,包括饮料瓶,门把手,工具等无孔物证。
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Exceed-A系列实验室专用超纯水机
% 电导率0-15μS/cm@25℃;杂质去除率98%S系列电导率0~4μS/cm@25℃;杂质去除率99.8%S系列电导率0~8μS/cm@25℃;杂质去除率99.5%水质标准优于中国国家实验室
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落地式低速冷冻离心机L4-4KR
技术参数:型号L4-4KR高转速5000rpm大相对离心力4390×g大容量4×750ml定时范围1min~99min59s转速精度±20r/min温度设置范围-20℃~40℃温度精度
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HY-4HY-4A往复式调速多用振荡器
二、 HY-4HY-4A往复式调速多用振荡器技术指标: 型 号 HY-1 HY-2 HY-3 HY-4/KS 转速范围 起动—300r/min 起动—360r/min 起动—300r/min
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强制对流烘箱 (4箱一体型)OF-02G-4C
型号OF-02G-4C腔体容积 (L / cu ft)60 / 2.1 x 4 个箱体温度温度范围 (℃ / ℉)室温 +10 ~ 200 / 室温 +18 ~ 392温度波动1),在100
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SK3-4-13-4节能程控真空炉
节能程控真空炉技术参数 名称 型号 工作室尺寸 额定温度℃ 额定功率(KW) 电源电压 配石英管及密封装置价格 石英管(刚玉管)规格 节能程控真空炉 SK3-2-10-4 ¢40*400
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CH1215T-4Js4孔磁力搅拌恒温槽
型号4孔磁力搅拌高温恒温水槽CH1215T-4J/4JS温度范围(℃)室温+15℃-120℃温度波动度(℃)± 0.05控温方式微机温控、PID调节显示分辨率(℃)0.1内胆容积15L开口
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