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NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统
该系统具有5个鼓泡装置、加热的气体管路、950度样品台三个气体环、淋浴式气体分布的RF射频等离子源以及工艺终端的N2冲洗、250l/sec涡轮分子泵及无油真空泵、PC全自动控制,完全的安全互锁
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磁控溅射系统NSC-4000 (M
基板支持加热(最高可达800°C)或冷却支持旋转GLAD斜角入射沉积腔体尺寸可定制1.5-5KW脉冲之流电源用于ITO/ZnO等类似材料 NANO-MASTER的溅射系统可构建成多腔体和多
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NDT-4000 热真空系统
· 电源要求:380V,3相交流电,35A/相· 主系统冷却水:20-30PSI,1.5gpm流速· 冷却单元冷却水:20-30PSI,5gpm流速
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NRE-4000 (M) 反应离子刻蚀
极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC菜单驱动,4级密码访问保护 该系统是基于PC控制的全自动系统.具有高度的可重复性。 铝质
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NPE-4000 (ICPM) 等离子增强化学气相沉积系统
立式ICPECVD系统不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrICP离子源高达12”(300mm)直径的样品台 该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的
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光学元件原子级涂覆系统
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NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统
离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮
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LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统
LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统概述:zei新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zei新的水平,可以帮助用户获得zei干净的晶圆
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NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机
LabView软件的PC计算机全自动控制机械泵的压力可达到10mTorr250 l/s的涡轮分子泵极限真空为5x10-7Torr完整的安全联锁
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SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统
机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器 兆声辅助湿法去胶技术是最新技术的兆声和清洗技术的发展,对
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