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靶基因甲基化测序(Target-BS)
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数字PH计“ph-2003/4/5/6”
数字PH计“ph-2003/4/5/6”数字PH计“ph-2003/4/5/6” 数字pH计“pH-2003”便携式仪表特点手动温度补偿: 0-60 °C ,带有样本温度键盘输入(不读取温度
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暗箱式三用紫外分析仪ZF-1B
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HASUC 真空干燥箱充HMDS气体
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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HMDS基片预处理系统真空干燥箱HMDS-6090
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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HASUC 带基片预处理系统真空烤箱HMDS
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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HASUC 基片处理系统真空烤箱HMDS-6090
在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的
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汗诺ZF-1B暗箱式三用紫外分析仪
波长的光辐射。技术参数:◆短波紫外波长:254nm◆长波紫外波长:365nm◆短波紫外:6W 长波紫外:6W 可见光:4W◆紫外滤色玻璃尺寸:200×50mm紫外分析仪的主要应用:【1】在生
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三用紫外分析仪-1
波长为:254nm ◆长波紫外峰值为:365nm ◆短波紫外:6W 长波紫外:6W 可见光:4W ◆紫外滤色玻璃尺寸:200×50mm 紫外分析仪的主要应用: 【1】在生
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豆干水分检测仪|腐竹含水量测定仪
传感器 3、样品质量:0.5-60g 4、腐竹快速水分测定仪加热温度范围:起始-180℃★★加热方式:应变式混合气体加热器★★微调自动补偿温度最高15℃ 5、水分含量可读性:0.01% 6、显示7
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