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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
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NPC-4000(A)全自动等离子刻蚀机
腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持8个MFC带电抛光的气体管路PC
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NPC-3500(M)等离子刻蚀机
100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持4个MFC带电抛光的气体管路PC计算机控制的气动阀带密码保护的
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NPC-3500(A)全自动等离子刻蚀机
、铝制腔体或钟罩式耐热玻璃腔兼容100级超净间使用淋浴头、ICP或微波等离子源旋转样品台RF偏压可PID控制加热到300 °C或冷却的样品台全自动或手动RF调谐最多可支持5个MFC带电抛光的气体管路
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NIE-4000 (M) IBE离子束刻蚀
源用于钝化层沉积 NANO-MASTER的离子束刻蚀系统具有很强的适应性,可根据不同的应用而按不同的配置进行建构。多样的样片夹具和离子源配置可支持用户不同的应用。 NIE-4000(M)IBE
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SWC-3000 (M) 兆声掩模板清洗机
晶圆片和掩模版。 台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯
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SWC-3000 (D) 兆声辅助光刻胶剥离系统
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SWC-4000 (C) 兆声清洗系统
掩模版空白部位或接触部位清洗X射线及极紫外掩模版清洗光学镜头清洗ITO涂覆的显示面板清洗兆声辅助的剥离工艺SWC-4000 (C) 兆清洗系统的特点:支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆
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SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机
帮助用户获得最干净的晶圆片和掩模版。 台式系统无损兆声掩模版或晶圆片清洗及旋转甩干支持12”直径的圆片或9”x9”方片微处理机自动控制IR红外灯
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SWC-4000 (D) 兆声湿法去胶系统
支持12”直径的圆片或9”x9”方片 30”D x 26”W 的占地面积 机械手自动上下载片 最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和
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