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450型电子束蒸发镀膜系统
技术参数系统主要由蒸发真空室、E型电子枪、热蒸发电极、旋转基片加热台、工作气路、抽气系统、真空测量、电控系统及安装机台等部分组成。 技术指标: 极限真空度:≤6.7×10 Pa 恢复真空
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高精度电子束曝光系统
ELS-F125是Elionix推出的世界上首款加速电压高达125KV的电子束曝光系统,其可加工线宽下限为5nm的精细图形。(以下参数基于ELS-F125) ELS-F125是Elionix推出
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GSL-ZDDZS-500电子束蒸镀
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DR/800 系列多参数水质分析仪
相对湿度无冷凝现象DR/800 系列多参数水质分析仪,特别为现场测试设计,测量过程简单、快速。 DR/800系列多参数水质分析仪具有自动波长选择和自动波长校正功能,储存有多条 标准曲线,可测量多个参数
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液晶参数测试系仪 ALCT系列 美国Instec
产品简介美国Instec秉承液晶名校科罗拉多大学Noel Clark教授液晶研究组30余年研究成果,研制出ALCT系列液晶参数测试系统,用于检测液晶材料级相关产品的多种性能参数。对于液晶产业
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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
表面 NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。 紧凑型立式系统手动上下载片不锈钢、铝制腔体或钟罩式
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NPC-3500(M)等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面
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低温等离子体刻蚀设备
等离子体清洗好处,对PTFE进行等离子活化处理,蚀刻工艺,为弹性密封件和PTFE密封件研发了很好的等离子工艺,并得到了应用,等离子体清洗与其它清洗方式对比表.等离子体清洗好处: 1、其除去了有机
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NRE-4000 (M) 反应离子刻蚀
腔体或不锈钢腔体不锈钢立柜典型的硅刻蚀速率,400 ?/min大自偏压淋浴头气流分布无绕曲气体管路自动下游压力控制双刻蚀能力支持:RIE以及PE刻蚀(可选)终点监测
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ICP刻蚀机配套冷却循环水机
DW-LS-3500W冷却循环水机技术参数 项目 型号 DW-LS-3500W标准制冷量Kcal/h3010W3500制冷量计算标准蒸发温度
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