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Hydrolab5系列多参数水质监测仪
到 10,000 μmol s-1m-2精度读数的± 5 %或±1μmol s-1m-2分辨率1μmol s-1m-2方法光电法 Hydrolab 5系列多参数水质分析仪是一款新型多参数、宽
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GAIA3(XMU/XMH) Ga离子双束扫描电镜(FIB-SEM
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NIE-3500 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀产品应用:表面处理离子铣表面清洗带活性气体的离子束刻蚀: 光栅刻蚀,以及SiO2,Si和金属的深槽刻蚀 该系统为全自动上下载片,并且通过计算机
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NIE-4000 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM,真空步进电机典型刻蚀速率:铜200 ?/min, 硅
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NIE-4000 (R) RIBE反应离子束刻蚀
14.5”不锈钢立体离子束腔体16cm DC离子枪1200eV,650mA, 气动不锈钢遮板6”水冷样品台晶片旋转速度3、10RPM,真空步进电机典型刻蚀速率:铜200 ?/min, 硅
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NDR-4000 (M) DRIE深反应离子刻蚀
实现背部冷却和自动锁紧,微精细地控制He气流量,包含气动截止阀;流量控制:支持5个或更多的MFC’s 用于硅的深度刻蚀,带气动截止阀,所有的慢/快通道采用电磁阀和气动阀控制,电抛光的不锈钢气体管路带有
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NRE-3500 (M) RIE反应离子刻蚀机
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牛津Oxford离子束刻蚀机Ionfab 300 IBE
· 已获得zl的高速衬底架(高达1000RPM)设计, 并配备了白光光学监视器(WLOM)——更为准确的实时光学薄膜控制离子束刻蚀的灵活性、均匀性俱佳且应用范围广。 牛津Oxford离子束刻蚀
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mindray迈瑞 BS-800/BS-860全自动生化分析仪
自动稀释检测,联 合质控诊断,导航式在线调试诊断和远程控制与维护等功能◆ 灵妙的结构设计任您自由组合,从容扩展,可实现4800T/H(生化+ISE)高速检测 BS
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TESCAN MAIA3 model 2016 (LM)超高分辨场发射扫描电镜
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