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NRE-4000 (M) 反应离子刻蚀
极限真空5x10-7Torr,20分钟内可以达到10-6Torr级别涡轮分子泵最多支持8个MFC菜单驱动,4级密码访问保护 该系统是基于PC控制的全自动系统.具有高度的可重复性。 铝质腔体
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NPE-4000 (ICPM) 等离子增强化学气相沉积系统
立式ICPECVD系统不锈钢或铝制腔体极限真空可达10-7TorrICP离子源高达12”(300mm)直径的样品台 该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有分形气流分布的
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光学元件原子级涂覆系统
光学涂层溅射IBAD离子束辅助沉积离子束刻蚀清洗离子束辅助反应刻蚀红外涂层表面处理 光学涂覆系统提供最先进的技术,系统的设计也可以支持其中任一个腔体的单独使用,同时具备各自的自动上/下载片功能
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NIE-3500 (AC) 全自动离子束清洗系统
离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮
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LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统
LSC-5000 (AC) 全自动兆声大基片清洗系统概述:zei新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zei新的水平,可以帮助用户获得zei干净的晶圆片
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NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面
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SWC-5000 (AD) 全自动兆声湿法去胶系统
机械手全自动上下载片支持12”直径的圆片或9”x9”方片多系统集成掩模板或晶圆片夹具臭氧清洗PVA软毛刷清洗高压DI清洗氮气离子发生器 兆声辅助湿法去胶技术是最新技术的兆声和清洗技术的发展,对
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NLD-4000 (ICPA) PEALD系统
NLD-4000(ICPA)全自动PEALD系统特点:NLD-4000(ICPA)是一款全自动独立的PC计算机控制的PEALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护
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SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机
SWC-4000 (M) 兆声掩模板清洗机概述:zei新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了zei新的水平,可以帮助用户获得zei干净的晶圆片和掩模版
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NIE-3500 (MC) 离子束清洗系统
离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮
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