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NEE-4000 (M) 电子束蒸发系统
10KW开关电源涡轮分子泵,极限真空5x10-7Torr NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。 顺序
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SWC-4000 (W) 兆声晶圆清洗机
片和掩模版。 支持12”直径的圆片或9”x9”方片独立系统无损兆声,试剂,毛刷清洗及旋转甩干微处理机自动控制化学试剂滴胶单元溶剂与酸分离排废热氮30”D x 26”W 的占地面积
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LSC-5000 (AD) 全自动兆声大基片湿法去胶系统
光刻胶去除/剥离硅片蓝宝石片圆框架上的芯片显示面板ITO涂覆的显示屏带保护膜的分划版掩模版空白部位掩模版接触部位带保护膜/不带保护膜的掩模版 最新技术的兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体
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原子层沉积系统(ALD
Oxides氧化物: Al203, HfO2, La2O3, SiO2, TiO ZnO, In2O3,etcNitrides氮化物: AlN, TiN, TaN
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NIE-3500 (M) IBE离子束刻蚀
、模块化设计易于维护、低成本的优势。 低成本离子束:高达2KV/10mA离子电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4“,5“,6“兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2
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NTE-3000 热蒸镀系统
NTE-3000蒸发系统是一个台式系统,跟我们的溅射系统共享一个共同的平台;比如:橱柜,腔体,真空系统,计算机控制架构等方面都是一样的。唯一的区别是一个使用磁控管,另一个使用加热坩埚. 因此,在
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NIE-3500 (A) 全自动IBE离子束刻蚀
电流密度100-360uA/cm2离子束直径:4",5",6"兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)极限真空5x10-7Torr260l/s涡轮分子泵,串接500 l/min干泵14
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NPC- 3000 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水表面
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NRE-3500 (A) 全自动RIE反应离子刻蚀机
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"WNRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"WNRE-3000
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NRE-3000 RIE反应离子刻蚀机
NRE-4000:基于PC计算机全自动控制的独立式系统,占地面积26“D x 44"WNRE-3500:基于PC计算机全自动控制的紧凑型独立式系统,占地面积26“D x 26"WNRE-3000
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