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重力式柱状沉积物采样器
柱状沉积物采样器(重力式柱状采泥器)产 地:江苏特 点:独特锁水设计。不锈钢套管内置透明采样管。采集柱状原状样品。用 途:采集深水(≥6米)水下沉积物(底泥),采集柱状原状沉积物(底泥)样品。标准配置
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脉冲激光沉积系统Pioneer 120 PLD System
技术指标1、沉积室8”CF泵口。8”CF衬底加热器端口。8“CF的目标2、旋转端口可编程导电衬底加热器加热器最\高温度:950℃。最\大加热器尺寸:直径2英寸(其他尺寸为定制)。3、抽真空
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脉冲激光沉积系统 Pioneer 180 MAPLE PLD
技术参数1. PLD真空室尺寸:12 " / 18”直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180 Models).2. 衬底尺寸:最大直径2“和/或多种1厘米x1
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牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100
牛津Oxford等离子刻蚀沉积机System 100 该设备是一个灵活和功能强大的等离子体刻蚀和淀积工艺设备。 采用真空进样室进样可进行快速的晶片更换、采用多种工艺气体并扩大了允许的温度
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德国Sentech离子刻蚀与沉积机 200 RIE
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美国Wildco 手持沉积物采样器
可装1.5m~4.5m长的延长把手,也可用连绳子后进行采样。 用于浅层淡水、海水及咸水沉积物采样。可装1.5m~4.5m长的延长把手,也可用连绳子后进行采样。头部聚乙烯翼阀封闭采样管,防止
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英国Oxford 等离子沉积机PlasmaPro 80 ICPCVD
工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆· 高质量PECVD沉积氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途· 用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 系统特点:· 小型
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备
二氧化硅和石英刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖工艺,可处理封装好的芯片、 裸晶片以及200mm晶圆沉积高质量的PECVD氮化硅和二氧化硅薄膜,用于光子学、电介质层
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快速热化学气相沉积系统(RTCVD)
性能和特点:- 温度范围:室温 ~ 1500°C;- 升温速度:200°C/s;- 气体混合能力(带有质量流量计);- 真空度:~10-6Torr; RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛
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脉冲激光沉积系统180 Laser MBE/PLD
技术参数1.PLD腔尺寸:12 " /18 "直径(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180型号)2.衬底尺寸:1厘米× 1厘米(激光加热器) ; 直径2”(辐射
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