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Harrick 等离子清洗机
PDC-002-HP 等离子清洗机产地:美国 HARRICK PLASMA型号:PDC-002-HP 主要特点:1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。2. 功率为低、中、高三档可调
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数据记录光功率计
规格参数Relative AccuracyDETACHABLE 2w/cm2 PROBES275-2000 mw/cm2 range±(.042% of reading +.450 mw/cm2
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紫外光功率计
规格参数Relative AccuracyDETACHABLE 2w/cm2 PROBES275-2000 mw/cm2 range±(.042% of reading +.450 mw/cm2
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快速退火炉
特征:基本尺寸:Up to 直径100 mm (4-inch) for AS-One 100 Up to 直径150 mm (6-inch) for AS-One 150 Small
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便携式紫外光功率计
规格参数Relative AccuracyDETACHABLE 2w/cm2 PROBES275-2000 mw/cm2 range±(.042% of reading +.450 mw/cm2
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EM-KLEEN远程等离子清洗机
远程控制等离子清洗机型号:EM-KLEEN用于电子显微镜等分析仪器如SEM、FIB、TEM样品室的清洁、XPS和SIMS、ASE 系统源于劳伦斯伯克利国家重点实验室的SmartCleanTM技术
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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的
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