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等离子刻蚀ICP
Minilock-Phantom III具有预真空室的反应离子刻蚀机可适用于单个基片或带承片盘的基片(3”- 300mm尺寸),为实验室和试制线生产环境提供最先进的刻蚀能力。它也具有多尺寸批处理功能
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Harrick等离子清洗机
PDC-002 等离子清洗机产地:美国 HARRICK PLASMA型号:PDC-002 主要特点:1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。2. 功率为低、中、高三档可调
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AT-400 原子层沉积
原子层沉积(Atomic layer deposition, ALD)是通过将气相前驱体脉冲交替的通入反应器,化学吸附在沉积衬底上并反应形成沉积膜的一种方法,是一种可以将物质以单原子膜形式逐层的镀在
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Harrick 等离子清洗机
PDC-32G-2 等离子清洗机产地:美国 HARRICK PLASMA型号:PDC-32G-2 主要特点:1. 紧凑台式设备、没有RF放射、符合CE安全标准。2. 功率为低、中、高三档可调
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Bench-Top Plasma Tool
AGS Plasma Systems, Inc.Now Celebrating Our 25th year! 美国AGS公司成立于1991年,在等离子系统领域已有25年的历程,是一家历史悠久的
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快速退火炉
AS-One系统有两种型号: AS-One 100 系统或AS-One 150 系统该快速退火炉是专门为满足大学、研究实验室和小规模生产的需求而研制的,高可靠且性价比高。该工艺室采用贝壳式设计,可完全
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Trion Orion HDCVD高密度化学气相沉积系统
Orion HDCVD 高密度气相化学沉积系统采用高密度的化学气相沉积技术,在惰性气体进入口安装感应线圈,周围布置陶瓷管。射频创建等离子体,通过气体环在衬底表面附近引入挥发性气体。当惰性气体与挥发性
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承片盘的
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Tergeo等离子清洗机
Tergeo等离子清洗机特 征: ● 模式:直接浸泡式等离子清洗可以高速刻蚀和表面改性; 远程等离子体可以轻微的清除表面污染,如SEM/TEM样
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紫外光功率计
OAI 超过35年的历史按照您的具体规格设计和制造紫外线仪器和曝光系统在世界范围内亨有声誉无论复杂还是简单,OAI都有最聪明的解决方案。新Model 308T 便携式光功率计
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