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CAAM-2001K原子吸收浩天晖 适用于铅,镉
(Sb),铋(Bi),铅(Pb),锡(Sn),碲(Te),锗(Ge),汞(Hg)等。3、原子吸收石墨炉法:原子吸收石墨炉法检测的元素,进样量少,灵敏度高(PPb级)。银(Ag),铝(Al),砷
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原子吸收三灯座单石墨炉原子吸收分光光度计浩天晖 应用于环境水/废水
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牛津仪器Etch刻蚀工艺
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用硅
电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀蓝宝石GST刻蚀- 锗锑碲化物的ICP刻蚀技术感应耦合等离子体刻蚀Bi2Te3—刻蚀碲化铋反应离子刻蚀ITO—刻蚀
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UV1900PC系列紫外可见分光光度计(1nm带宽 CRT版
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三灯座单石墨炉原子吸收分光光度计
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用金属
铝镓铟磷刻蚀InP—刻蚀磷化铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用化合物半导体
铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用有机物
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牛津仪器Etch刻蚀工艺 应用电介质
铟刻蚀InAlAs—刻蚀砷化铟铝刻蚀InP/InGaAsP—刻蚀磷化铟/铟镓砷磷刻蚀ZnSe—反应离子刻蚀硒化锌电介质刻蚀(Ta2O5)—五氧化二钽刻蚀Al2O3—刻蚀氧化铝—感应耦合等离子体刻蚀
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