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连续式四探针片电阻及光学膜厚测量设备
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F54 薄膜厚度测量仪
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ES01 快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪
检测,光谱范围覆盖半导体的临界点,这对于测量和控制合成的半导体合金成分非常有用。并且适合于较大的膜厚范围(从次纳米量级到10微米左右)。 ES01系列可用于测量光面基底上的单层和多层纳米薄膜的厚度
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快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪
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日本日立FT110XRF萤光镀层厚度测量仪
下的高灵敏度,即使在微小准直器(0.1、0.2mm)下,也能够大幅度提高膜厚测量的精度。 同时,FT-110还配备有新开发的薄膜FP法软件,即使没有厚度标准物质也可进行多达5层10元素的多镀层
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波长扫描式 多入射角光谱椭偏仪
/Si二氧化硅纳米薄膜标片 NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 样品池 光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,膜层厚度、表面微粗糙度等
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ESS03 波长扫描时式 多入射角光谱椭偏仪
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EM12 精致型多入射角激光椭偏仪
氮化硅纳米薄膜标片VP01真空吸附泵VP02真空吸附泵 EM12可在单入射角度或多入射角度下对样品进行准确测量。可用于测量单层或多层纳米薄膜样品的膜层厚度、折射率n和消光系数k;也可用于同时测量
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极致型多入射角激光椭偏仪
原子层量级的极薄纳米薄膜,膜厚精度达到0.01nm,折射率精度达到0.0001。百毫秒量级的快速测量国际水准的仪器设计,在保证极高精度和准确度的同时,可在几百毫秒内快速完成一次测量,可满足单原子膜层
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德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪
等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用质
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