-
PHL膜厚测量椭偏仪 ME-210(-T)
物台--标准φ8inch、选配φ12inch 以往的椭偏仪是单点测试,因此要取得整面膜厚均匀性数据是需要N个小时的工作,而且最小的测量分辨率就是激光光斑大小,也就是说,无法取得微小区域的膜厚分布数据
-
德国应用光谱TranSpec Lite白光干涉膜厚仪
技术特点光学方法,非接触、无损测量,安全无辐射。快速膜厚分析,只需几毫秒即可获得测量结果膜厚测量范围 0.1 - 150 微米 ( 0.004 to 6 mil )极高的分析准确度,在整个厚度
-
一六 XAD-200高端全自动型膜厚仪
XAD-200是一款全元素上照式荧光光谱仪,既保留了专用测厚仪检测微小样品和凹槽的膜厚性能,又可满足RoHS有害元素检测及成分分析,搭载全自动平台实现XYZ轴编程位移,实现无人值守多点测量
-
大塚电子显微分光膜厚仪OPTM
法,可测量绝对反射率、多层膜厚、折射率和消光系数,纳米级测量,精度高。OPTM可用于FPD构件(PI膜、ITO膜、CF膜)、光触媒、汽车零件DLC膜、半导体材料氧化层、光学材料薄膜等材料的无损非接触式
-
在线薄膜测量系统
系统设计,能够使探头到达样品上每个点,扫描精度达到微米量级。原子层量级的膜厚分析精度采用非接触、无破坏性的椭偏测量技术,对纳米薄膜达到极高的测量准确度和灵敏度,膜厚测量灵敏度可达到0.05nm。简单
-
波长扫描式 自动变角度光谱椭偏仪
NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 样品池 光谱椭偏仪用于测量单层和多层纳米薄膜的层构参数(如,厚层厚度、表面为粗糙度等)和光学参数(如,折射率n
-
快速摄谱式 多入射角光谱椭偏仪
:原子层量级的检测灵敏度国际先进的采样方法、高稳定的核心器件、高质量的设计和制造工艺实现并保证了能够测量原子层量级的纳米薄膜,膜厚精度达到0.05nm。秒级的快速测量快速椭偏采样方法、高信噪比的信号
-
GCT-311计算机型电解式膜厚计
【简单介绍】品牌其他品牌价格区间面议产地类别进口应用领域综合计算机型电解式膜厚计 GCT-311使用白金电极 (选购) 及电位图的测定功能时,对于作双重镍及三重镍测定分析是非常容易的。【详细
-
一六 XTU-4C专业性能型膜厚仪
下照式微聚焦多准型,搭载先进的EFP算法软件和微光聚集技术,配合切换准直器在检测各微小及凹凸面样品时检出限更低,仪器寿命更长,性能更稳定。微聚焦加强型X射线装置:可测试各类极微小的样品,即使检测
-
EX-3000日本荧光X射线膜厚仪
【简单介绍】品牌其他品牌价格区间面议产地类别进口应用领域综合产品名称:日本荧光X射线膜厚仪 EX-3000可测试项目:单层膜厚、双层膜厚、三层膜厚、化学镍膜厚、铅合金膜厚及组成、压铸锌上镀铜
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net