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极致型多入射角激光椭偏仪
原子层量级的极薄纳米薄膜,膜厚精度达到0.01nm,折射率精度达到0.0001。百毫秒量级的快速测量国际水准的仪器设计,在保证极高精度和准确度的同时,可在几百毫秒内快速完成一次测量,可满足单原子膜层
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德国应用光谱Plasma Emission Messurement System白光干涉膜厚仪
等离子体发射测量在紫外线…近红外线范围可同时观察到等离子发射低压等离子沉积技术是一个客观的连续不断的过程,如PVD(物理气象沉积)是今天真正的问题之一。除了等离子体发射光的表观检查,有时也使用质
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精致型多入射角激光椭偏仪
方法、高稳定的核心器件、高质量的制造工艺实现并保证了能够测量极薄纳米薄膜,膜厚精度可达到0.2nm。1.6秒的快速测量国际水准的仪器设计,在保证精度和准确度的同时,可在1.6秒内快速完成一次测量,可对
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ATGX310系列_光学薄膜厚度测量仪
半透明薄膜测量模式反射和透射反射和透射反射和透射反射和透射粗糙膜厚测量可以可以可以可以测量速度最短1ms最短1ms最短1ms最短1ms是否能在线能能能能光斑尺寸标准:200um或400um标准
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EM13 LD系列多入射角激光椭偏仪
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快速摄谱式 自动变角度光谱椭偏仪(光伏专用
所计算的标准差。可选配件: NFS-SiO2/Si二氧化硅纳米薄膜标片 NFS-Si3N4/Si氮化硅纳米薄膜标片 VP01真空吸附泵 VP02真空吸附泵 针对光伏太阳能电池研发和质量控制领域推出的
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GSL-PECVD-300化学气相沉积
沉积采用等离子体增强型化学气相沉积技术,基本温度低,沉积速率快,在光学玻璃、硅、石英以及不锈钢等不同衬底材料上沉积氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜,成膜质量好,针孔较少,不易龟裂,适用于制备非晶硅和微晶硅
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氧指数、烟密度、熔体流动速率校准用标准物质
氧指数、烟密度、熔体流动速率校准用标准物质标准物质名称标准物质号标称值不确定度有机玻璃GBW(E)13051918.4%2%聚丙烯GBW(E)13056517.8%3%软质PVC膜GBW(E
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日本日立FT110XRF萤光镀层厚度测量仪
下的高灵敏度,即使在微小准直器(0.1、0.2mm)下,也能够大幅度提高膜厚测量的精度。 同时,FT-110还配备有新开发的薄膜FP法软件,即使没有厚度标准物质也可进行多达5层10元素的多镀层
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日立 FT150系列 荧光X射线镀层膜厚测量仪
:mm400(W)×300(D) FT150L:mm300(W)×300(D) mm 操作系统:电脑、22英寸液晶显示屏 测量软件:薄膜FP法(zei多5层膜、10元素
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