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NRE-4000 (ICPM) 全自动ICP刻蚀系统
外观尺寸:紧凑型立柜式设计,不锈钢腔体,外观尺寸为44”(W) x 26”(L) x62”(H); NRE-4000(ICPM)ICP刻蚀系统是带ICP等离子源和偏压样品台的高速刻蚀系统
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等离子体增强型原子层沉积PEALD
(batch)0.77 %TiO20.28 %HfO20.47 %ZnO0.94 %Ta2O51.0 %TiN1.10 %CeO21.52 %Pt3.41 % 等离子体增强型原子层沉积PEALD介绍
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牛津仪器OPAL原子层沉积系统(ALD)
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电弧等离子体沉积系统
系统参数: 1. 真空腔尺寸:400X400X300长宽高2. 抽空系统:分子泵450L/s3. 电弧等离子体源:标配一个,最多3个4. 沉积气压:真空或者低气压气体(N2, H2,O2
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4路质子混气管式PECVD系统
化学反应能在较低的温度下进行,利用了等离子体的活性来促进反应,因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积法(PECVD), 内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层可以提高设备的加热效率,同时也可以延长
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NLD-4000 (M) 原子层沉积系统
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PECVD MVS
的团簇型(星型)或是直线型沉积系。我们公司的工程设计部门尽可能为用户着想,以使用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。R&D toProduction可用于研发和生产?PECVD等离子化学气相沉积
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DiscovIR 固相沉积型气红联用仪
信噪比:高灵敏度10 ng扫描速度:≥32次分辨率:4cm-1波数范围:4000-700cm-1仪器类型:实验室型仪器种类:红外辅助设备 DiscovIR的固相沉积型气红联用仪是对色谱
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PECVD沉积
PECVD沉积Minilock-Orion III是一套最先进的等离子增强型化学汽相沉积(PECVD)系统。 系统的下电极尺寸可为200mm或300mm,且根据电极配置,可以处理单个基片或带承
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在线式HIT用PECVD MVS
在线式HIT用PECVDIn-Line PECVD system for HIT junctions用于制备高效异质结太阳电池的直线型等离子体化学气相沉积系统Throughput: 18
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