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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 锥形通孔刻蚀
纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展,PlasmaPro 100 Estrelas 提供了工艺灵活性。光滑侧壁工艺高刻蚀速率腔刻蚀高深宽比工艺锥形通孔刻蚀广泛的应用领域机械或静电压盘
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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JEBG系列大功率电子枪
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜,此外在电子束熔炼时,可用于高
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JEBG 系列大功率电子枪・电源
JEBG 系列大功率电子枪・电源JEBG系列大功率电子枪是用来在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在宽幅塑料及大面积玻璃基板上持续、高速率地镀膜,还可应用于电子束熔炼,用于高熔点
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TESCAN AMBER 镓离子型双束扫描电镜
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 应用VCSEL GaAs/AlGaAs刻蚀
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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英赛斯纳米药物制备系统Unique AutoMCD
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 精度高
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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 应用纳米焊接
在扫描电镜或聚焦离子束样品室中,气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用,可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和纳米焊接
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用射频器件低损伤GaN刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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