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牛津仪器OmniGIS II气体注入系统 应用样品制备
、速度和可用性。在扫描电镜或聚焦离子束样品室中,气体注入系统(GIS)直接在样品上引入了可控制的流动气体方案。气体与显微镜的电子束或离子束相互作用,可以在材料表面进行刻蚀或沉积。应用范围包括样品制备和
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赛默飞矿物参数自动定量分析系统
赛默飞作为科学服务领域的领导者,拥有超过40 年的自动化矿物分析技术经验,全新Thermo ScientificTM MapsTM Mineralogy软件提供有史以来最准确的矿物识别算法.其他
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 广泛应用领域
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 光滑侧壁工艺
牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS
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VSParticle 纳米印刷沉积系统
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电子束直写系统 EBPG5150
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀 应用III-V族材料刻蚀工艺
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器PlasmaPro 100 Cobra刻蚀和沉积设备 应用射频器件低损伤GaN刻蚀
PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。
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多参数分析系统:Modulyzer
使用 Modulyzer 多参数分析系统,可在一个测量周期中,根据单个样品获取多达 7 个参数。配合安东帕进样器,可以完全自动地连续分析多达 71 个样本。您可根据所需的准确度,从 4 个密度计或
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牛津仪器PlasmaPro100 Estrelas刻蚀设备 高深宽比工艺
锥形通孔刻蚀,不需要更换腔室硬件就可以实现。硬件设计使同一腔室中可进行Bosch™和超低温刻蚀工艺,使得纳米和微米结构刻蚀均可实现兼容50mm至200mm的衬底 - 确保您只需一台系统,便具备从研发
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