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SAL1000G ALD原子层沉积系统
SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级
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上海伯东代理原子层沉积设备 Thermal ALD
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准原子层沉积 ALD 是基于顺序使用气相化学过程的重要技术之一, 它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积 CVD . 多数
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SUPERALD Exploiter原子层沉积超高真空系列 UHV ALD
工艺温度:温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制);前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
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超高真空集成原子层沉积系统 UHV ALD
温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制);前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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原子层沉积(ALD)ForgeNanoTHEIA
THEIA 超快平面原子层沉积系统以高性能、稳定和灵活为特点,能够满足科学研究的各种需求,并且无缝衔接研发和生产之间的转换。产品规格:1. 专利技术SMFD-ALDTM,超快沉积速度为12-30nm
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ForgeNano原子层沉积(ALD)超快平面原子层沉积系统
THEIA 超快平面原子层沉积系统(ALD)是一款高性能、稳定、灵活、可靠且安全的研发型设备,具备工业生产解决方案的优势。THEIA 可以进行升级改造,以满足科学研究的各种需求,实现从“研发”到
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多功能台式原子层沉积系统原子层沉积(ALD)PANDORA
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统是一种卓越的研发工具,结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术,可轻松在粉末和平面样品之间切换,而不影响研究效率。产品规格如下:1. 前驱体通道
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原子层沉积(ALD)ForgeNano 多功能台式原子层沉积系统
PANDORA 多功能台式原子层沉积系统,让很多人相信,潘多拉的魔盒里埋藏着尚未开发的宝物——希望!这台工具结合了粉末原子层沉积技术和平面原子层沉积薄膜技术,是独一无二的高效研发工具。使用者可以轻松
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原子层沉积(ALD)ForgeNano流化床原子层沉积系统
PROMETHEUS流化床原子层沉积系统粉末包覆能够有效增强材料性能和使用寿命,特别是锂电池的正极或负极材料。经过表面包覆处理后,放电性能和循环使用寿命都有显著提升。然而,目前工业上主要采用机械混合
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