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伯英科技芬兰PICOSUN原子层沉积系统
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NLD-3500 (M) 原子层沉积系统(ALD)
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级
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超高真空集成原子层沉积系统 UHV ALD
温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制);前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版可用于透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版可用于显示器,LED,激光和3D对象
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PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版可用于透镜,光学器件,珠宝,硬币和医疗植入物
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原子层沉积(ALD)Picosun
PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的
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Picosun原子层沉积(ALD)
PICOSUN原子层沉积系统ALDR-200基础版(PICOSUN™ALDR-200Standard)名称:原子层沉积系统产地:芬兰Picosun简介Picosun是一家全球公司,总部位于芬兰的
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