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SUPERALD Exploiter原子层沉积(ALD)系统
Exploiter原子层沉积系统-HV集成传送反应腔是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。
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PANDORA 多功能台式原子层沉积系统
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THEIA超快平面原子层沉积系统
THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“生产”的无缝衔接。
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PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统
P 系列是 Forge Nano 专为粉末 ALD 开发的研发级工具,可轻松实现 kg 的粉末包覆。使用流化床技术可保证粉末在反应器中的分散,有利于前驱体扩散。
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NLD-3000 ALD原子层沉积系统
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NLD-3500 (M) 原子层沉积系统(ALD)
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SAL1000G ALD原子层沉积系统
SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级
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SUPERALD Exploiter原子层沉积Thermal-ALD
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超高真空集成原子层沉积系统 UHV ALD
温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制);前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶
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NLD-4000 (A) ALD全自动原子层沉积系统
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