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气相二氧化硅
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硒化钨(IV),12067-46-8,99.99% metals basis
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硒化钨(IV),12067-46-8,99.8% metals basis
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纳米二氧化硅
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硒基氰酸钾,3425-46-5,98%
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硒代胱胺二盐酸盐,3542-13-0,97%
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单分散二氧化硅微球
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Ebselen | 依布硒 | MedChemExpress (MCE)
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二氧化碳去除装置
。二氧化碳去除装置搭配恒定负压系统,保证 稳定的脱气效率及减小基线的波动,进气口增加二氧化碳吸收装置提高二氧化碳的脱 除效率。可搭配国产及进口所有型号离子色谱仪器使用
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Se-(甲基)硒基-L-半胱氨酸,26046-90-2,>98.0%(HPLC)(T)
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