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微谱 抗生素药物残留检测 (机械性能,重金属,限度检查,成分分析
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化学机械抛光液研发
抛光液、抛光垫和抛光设备主要是国外生产,抛光材料的国产化有一定的难度。其中CMP抛光液的需求量最大,国产化极为迫切。 化学机械抛光(CMP)是工件的表面与抛光液中的氧化剂、腐蚀剂、催化剂等发生
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