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AFS ® 8D / 16D脱气水纯化系统
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小型自动核酸纯化系统(InnuPure C16)
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磁控离子溅射仪
1.技术参数:输入电压AC220V±10%,50Hz工作电压DC2400V最大功率(主机与机械泵)500W工作原理磁控溅射可选靶材金、铂、银、铜、铝、铅等常用金属真空泵两级直联旋片式真空泵 1L/s
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三靶高真空磁控镀膜溅射系统
产品简介:该设备为小型三靶磁控溅射镀膜设备,通过模块式化设计后,系统安装方便灵活易于维护,适合科研与教学实验使用。产品型号三靶高真空磁控镀膜溅射系统主要特点1、组成由单室超高真空双靶磁控溅射室,由
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜,样品直径可达50mm,镀膜厚度可达300Å,特别适用于SEM样品表面的镀膜。
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VTC-600G高真空磁控溅射仪
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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪
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三靶射频磁控溅射镀膜仪
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的
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LUXOR Au 磁控离子溅射仪
LUXOR Au喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!主要技术指标和特点如下:------ 三种模式: 金属溅射,样品干燥
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VTC-180EVS溅射蒸发一体机
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