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5靶头等离子射频磁控溅射仪
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IXRF磁控离子溅射仪MSP-2S/MSP-Mini
简便:通过定时器控制从真空排气到启动放电电压的整个过程。 IXRF磁控离子溅射仪MSP-2S/MSP-Mini利用磁控电极在低电压下对样品溅射金属靶材,为SEM样品表面喷镀金属镀层,方便电镜观察,而
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
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GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪
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小型离子溅射仪
真空溅射仪是目前较为先进的对样品进行预处理的仪器。主要适用于 SEM和X射线微观分析等表征工作前的镀金等贵金属处理。排除了真空 度对成膜质量的影响。溅射电流,可&ldquo
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等离子薄膜溅射仪
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和
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小型磁控溅射镀膜仪
小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样,可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。 具有一体化、占用空间小、灵活的特点,无需380V工业电,无需额外冷水机,采用无油干泵
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全自动磁控离子溅射仪 GVC-2200手套箱专用
技术指标溅射电流:5-45mA工作方式:全自动磁控溅射电压:600V靶材:金、铂(标配、二选一)真空度:<1Pa真空泵:油封式旋片泵1L/s(可选配涡旋干泵)液晶显示屏简便操作、自动抽真空做样、自动
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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