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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
管(Φ6mm)7、靶材(不锈钢靶、陶瓷靶)可选配件金、铟、银、白金等各种靶材 VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是zei新研制开发的镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜
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VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪
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VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
Φ3mm软管8、最高电压: 1600V DC9、机械泵:2L/s GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备
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GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪
?3mm软管8、最高电压:1600V DC9、机械泵:2L/s GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的最简单、可靠、经济的镀膜设备。 产品简介
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小型离子溅射仪ETD-900
溅射仪外观亮丽,做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适。 ETD-900 型离子溅射仪外观亮丽,做工精致,旋钮式定时器档位清晰,手感舒适;特殊定制的真空指示和电流指示表头沉稳大气,具有欧洲典雅
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GVC-1000小型离子溅射仪
技术指标工作方式:磁控溅射外形尺寸:424(L)×271(D)×255(H)mm极限真空:<1Pa溅射靶材:金、铂、金钯合金、银、铅、铜、铬、锑等工作介质:空气或氩气真空室:高硅硼玻璃φ128
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ETD-2000小型离子溅射仪
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SBC-12小型离子溅射仪
、钛、铜、镍、金钯合金等。SBC-12小型离子溅射仪产品特点:特殊密封结构,玻璃不易损坏操作方便,无需培训即可使用维护成本低,无需上门安装技术指标:真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏计真空保护配有
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镀膜仪(小型镀膜仪/离子溅射仪)
。 108 manual镀膜仪(离子溅射仪)是一款结构紧凑的桌上型镀膜系统,特别适用于扫描电镜成像中非导电样品高质量镀膜。主要特性 l 通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损
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