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ETD-800型全自动离子溅射仪
。 ETD-800 型全自动等离子溅射仪外观亮丽做工精致,机箱大小仅有310mm x 260mm x 115mm。 ETD-800小型离子溅射仪是专门为扫描电子显微镜用户设计的全自动
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NSC-3000 (M) 磁控溅射系统
不锈钢腔体RF、DC溅射RF或DC偏压(1000V)样品台可加热到700°C膜厚监测仪基片的RF射频等离子清洗预真空锁以及自动晶圆片上/下载片 NSC-3000(M)磁控溅射系统带有水冷或者
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Q300T D Plus 双靶顺序溅射镀膜仪
Q300T D Plus–双靶顺序溅射镀膜仪,适用150mm直径的试样 Q300T D Plus适用于两种材料的多层顺序溅射,具有两个独立的溅射头,无需破坏真空即可连续溅射
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高精度 低温 水浴槽
:旋转蒸发仪、阿贝折光仪、旋光仪、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物发酵罐、化学反应器(合成器)等。材料领域:电镜、X射线衍射、X荧光、真空溅射电镀、真空镀膜机、ICP刻蚀
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ETD-650MS磁控溅射仪
溅射气体溅射靶材溅射电流极限真空样品仓尺寸样品台尺寸工作电压根据实验目的可添加氩气,氮气等多种气体。配有直径50mm弱磁靶和直径60的强磁靶。标配靶材为金靶,可配银靶,铜靶,铬靶等多种靶材电流
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PECVD MVS
用户们获取他们最需要的且价格合适的设备。R&D toProduction可用于研发和生产?PECVD等离子化学气相沉积?HWCVD热丝化学气相沉积?Sputter溅射?Anneal退火处理R&D
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GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪
GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可设定程序,并精确控制温度200oC-1500oC(或者1200oC-1700oC),最大可蒸镀直径2"的薄膜样品,样品台可旋转,以获得更均匀的薄膜
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PCE-6小型等离子清洗机
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PCE-6小型等离子清洗机
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移动式单通道声波法炉膛温度测量系统
技术规格测量温度范围:0-2000℃zei短测量距离:3米测量精度:1.5%测量响应时间:小于2秒系统功率:1000瓦供气压力:5.5-8.0公斤(杂用空气,无需仪表空气)(可选配电子声源)供气
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