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路博全自动电感耦合等离子体发射光谱仪LB-900-CP
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ICP-2011电感耦合等离子体扫描型发射光谱仪
技术参数 射频发生器(RF): (1) 电路类型:他激式,由两支金属氧化物场效应管MOSFET管组成的推挽放大电路 (2) 工作频率:27.12MHz±0.05
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ICP-900电感耦合等离子体发射光谱仪
光谱仪技术性能指标说明1. 射频发生器(RF):电路类型电感反馈式自激振荡电路,全自动点火,同轴电缆输出匹配调谐,取功率反馈,进行闭环自动控制。工作频率40.68MHZ±0.05%频率稳定性
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1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD
、电路接头:标准HN型接头,可与DC和RF电源相匹配6、所需功率:DC最大250W,RF最大100W7、阴极溅射电流:最大3A8、阴极溅射电压:200V-1000V9、工作压力范围
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NPC-4000(M) 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC-3500(M)等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC- 3000 等离子刻蚀机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC-3500 (M) 等离子清洗机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC-4000 (A) 全自动等离子清洗机去胶机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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NPC-4000 (M) 等离子清洗机
有机物以及无机物的残留物去除光刻胶剥离或灰化去残胶以及内腐蚀(深腐蚀)应用清洗微电子元件,电路板上的钻孔或铜线框架提高黏附性,消除键合问题塑料的表面改型:O2处理以改进涂覆性能产生亲水或疏水
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