-
UVISEL 堀场HORIBA椭偏仪 可检测ZnO薄膜
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 用于测定ZnO薄膜,符合行业标准0。适用光学常数项目。 技术参数: * 光谱范围: 190-885 nm(可扩展至2100nm
-
UVISEL 堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪 可检测ZnO薄膜
堀场HORIBA椭偏仪UVISEL 参考多项行业标准0。完成ZnO薄膜的检测。可以用在电子/半导体行业领域中的Al含量,膜厚度项目。 仪器简介: 椭圆偏振光谱是一种无损无接触的光学测量技术
-
安东帕Nova系列比表面和孔径分析仪 测量硅基类材料的孔径分布
-
椭偏仪堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪 椭圆偏振光谱仪研究ZnO薄膜
堀场HORIBAHORIBA Plus研究级经典型椭偏仪UVISEL 可用于测定ZnO薄膜,适用于光学常数项目。并且参考多项行业标准0。可应用于涂料行业领域。 技术参数: * 光谱
-
塞默飞CTS™ Neurobasal™ 培养基
Gibco™CTS™ Neurobasal™ 培养基货号: A1371201CTS Neurobasal 培养基专为转化干细胞研究人员而设计。配合 B-27 补充剂一起使用时,其可用于培养产前神经元
-
耶拿 Fastblot B34 半干转印系统 新型增塑的碳基和生物惰性材料防止腐蚀
地转移到载体膜上。同时,确保整个转移膜表面上的温度分布均匀。•对于蛋白质的快速半干印迹高达150 KDa•基于碳电极•16×20厘米印迹区•Fastblot B34电极的新型增塑的碳基和生物惰性材料
-
LCMS培养基上清分析方法包
LC/MS/MS细胞培养基上清分析方法包LC/MS/MS Method Package for Cell Culture Profiling LabSolutions Ver.5用
-
Al2O3+ZnO薄膜
产品名称:AL2O3+ZnO晶体(进口料ZnO?epi?film?on?Sapphire)技术参数:晶向:薄膜厚度:500A(0.5 micron)厚度公差:5%电阻率:10 to 10E3
-
模块化工作站 HAAKE 赛默飞MARS III 材料物性表征部 产品目录
点击查看下载模块化工作站 HAAKE 赛默飞MARS III 材料物性表征部 产品目录相关资料,进一步了解产品。 材料物性表征部 产品概况:创新的哈克MARSIII 平台,以长远的眼光来设计,独有
-
MARS III流变仪模块化工作站 HAAKE 应用于机械设备
点击查看下载MARS III流变仪模块化工作站 HAAKE 应用于机械设备相关资料,进一步了解产品。 材料物性表征部 主机性能单位MARSIII最小扭矩µN.m0.003最大扭矩mNm200扭矩
-
1.
欧洲科学院2024年院士增选结果公布 国内多位教授入选
-
2.
融资成本降六成 北京正式发布42个领域设备更新贷款贴息方案
-
3.
英盛生物官宣 新任CEO走马上任
-
4.
2024年第一季度微波消解仪中标盘点,三大品牌占八成市场
-
5.
聚焦优生优育检验医学 临床质谱技术引领未来发展新趋势
-
6.
安捷伦携手北京工商大学共创新篇:国酒风味研究联合实验室正式成立
-
7.
第二届天津生物及临床质谱论坛 二轮通知
-
8.
阿尔塔科技质量总监徐银分享:质谱领域全面探讨,临床质谱前沿揭秘
-
9.
经费275万元!中国科协2024年度科技期刊项目(第一批)启动申报
-
10.
精神类治疗药物浓度监测室间比对评价中心挂牌仪式
想在此推广您的产品吗?
咨询热线: 010-84839035
联系邮箱: sales@antpedia.net