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安捷伦4300红外 适用于三层体系分析
安捷伦红外4300可以用在多个行业领域,用来检测现代镀膜,可完成三层体系分析项目。符合多项行业标准。 产品特性:● 主要应用领域:高校科研、光学材料生产● 高级材料的无损检测● 采用人体工程学设计
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原子层刻蚀半导体检测仪PlasmaPro 100 ALE 失效分析
刻蚀用特殊配置的PlasmaPro FA设备进行失效分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多
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安捷伦8700红外 适用于聚合物层
安捷伦红外8700可用于测定包装材料,适用于聚合物层项目。并且参考多项行业标准暂无。可应用于高分子材料行业领域。 Agilent 8700 LDIR 激光红外成像系统——清晰的化学成像和理想的分析
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半导体检测仪原子层刻蚀PlasmaPro 100 ALE PlasmaPro100 ALE 原子层刻蚀
分析的干法刻蚀解剖逆工艺,可处理封装好的芯片, 裸晶片,以及200mm晶圆高质量PECVD沉积的氮化硅和二氧化硅,用于光子学、电介质层、钝化以及诸多其它用途用于高亮度LED生产的硬掩模沉积和刻蚀 我们
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光纤剥模器
光纤剥模器 产品特点:高剥模效率低信号损耗和光束质量劣化小 高消光比(对于保偏光纤) 可靠且稳定Application:高功率光纤激光器光纤放大器产品参数:类型1X1信号波长800-2000nm泵浦
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HemiView数字植物冠层分析系统
HemiView数字植物冠层分析系统名称:数字植物冠层分析系统 型号:HemiView 产地:英国用途:HemiView数字植物冠层分析系统通过处理影像数据文件来获取
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芯硅谷 3D立体活性炭口罩(四层)
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牛津仪器PlasmaPro 100 ALE原子层刻蚀
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。
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牛津仪器ALD OpAL原子层沉积系统
OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积
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安东帕SAXSpace安东帕X射线散射仪 可检测薄片层体系
安东帕X射线散射仪安东帕SAXSpace适用于内部结构分析项目,参考多项行业标准。可以检测薄片层体系等样品。可应用于高分子材料行业领域。 小角X射线散射(SAXS)是研究有纳米尺寸的薄片层结构样品
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