聚合物笔无掩模光刻纳米制造系统(polymer pen lithography)聚合物笔纳米无掩模光刻制造系统PPL, 使用可达160000笔尖的阵列,采用蘸笔光刻DPN的方式,将待沉积的材料(墨水)浸蘸在笔尖阵列上,笔尖可控的与基底表面接触,从而在基底表面批量成型所需图案,加工纳米微米图案无需光掩
西北大学的Mirkin教授小组开发的基于原子力显微镜的纳米刻蚀技术,国内又称作浸蘸笔纳米加工刻蚀技术。通过对被转移材料或物质的精确控制, 生物分子点印加工系统------(蛋白质/DNA
显微镜的纳米刻蚀技术,国内又称作浸蘸笔纳米加工刻蚀技术。通过对被转移材料或物质的精确控制,可以在衬底表面构造出任意的纳米结构。随着与相关技术的发展, DPN逐渐发展为一种操作简单的纳米刻蚀技术。经过
Mirkin教授小组开发的基于原子力显微镜的纳米刻蚀技术,国内又称作浸蘸笔纳米加工刻蚀技术。通过对被转移材料或物质的精确控制,可以在衬底表面构造出任意的纳米结构。随着与相关技术的发展, DPN逐渐发展为一种
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