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MOCVD
MOCVD设备将Ⅱ或Ⅲ族金属有机化合物与Ⅳ或Ⅴ族元素的氢化物相混合后通入反应腔,混合气体流经加热的衬底表面时,在衬底表面发生热分解反应,并外延生长成化合物单晶薄膜。 在衬底表面发生热分解反应
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上海伯东 氦质谱检漏仪 MOCVD 检漏
上海伯东德国 Pfeiffer 氦质谱检漏仪MOCVD 设备检漏上海伯东客户厦门某大型 LED 生产企业,近日成功采购6台氦质谱检漏仪ASM 340 用于 MOCVD 设备检漏。MOCVD 是
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NMC-3000 MOCVD金属有机化学气相沉积系统
独立式系统ICP或者微波等离子源14”立方的电抛光不锈钢腔体8”或者12”的基片夹具700°C旋转基片夹具用于6”样品台,950°C用于4”样品台增加鼓泡器和MFC自动上下片集群配置可兼容
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InP上镀InP/InGaAs/InP薄膜
产品名称:InP上镀InP/InGaAs/InP薄膜(dia3”InP/InGaAs/InP EPI on InP ) 产品参数:薄膜生长方法:MOCVD deposition基底参数:N型
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InGaAs PIN光电二极管MPGT3565T
。 基于InGaAs/InP MOCVD结构的平面型二极管还有φ60μm, φ75μm, φ300μm, φ800μm,φ1000μm, φ1500μm, φ3000μm,φ5000μm等光敏面积直径
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SL401型 循环水制冷机组
高度。 SL401型循环水制冷机组主要为X射线衍射仪、荧光光谱仪、扫描显微镜、激光器、能谱、真空成型机、高频机、MOCVD等需用恒温冷却水源的精密仪器设备的配套产品。 The SL401
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HPR-20 R&D研究级在线气体分析质谱仪
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Hiden HPR30过程气体分析质谱仪
过程气体分析系统(Process Gas Analyser),适用于监测分析残余气体和真空工艺过程中的气体组成及变化。应用: · CVD / PECVD / RIE / LPCVD / MOCVD
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HPR-80腐蚀性气体分析仪
/ MOCVD · 半导体晶片加工研究 · 真空、等离子体过程 · 活性物质定量分析 · HF,HCl,HBr,CFC 研究主要特点:· 加热的电抛光波纹管,快速偶合连接器
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Film Sense FS-1™多波长椭偏仪
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