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PLASSYS微波等离子体化学气相沉积系统MPCVD
,样品台旋转功能,微波发生源脉冲模式,3-4英寸样品台 微波等离子体化学气相沉积系统-MPCVD(科研/小批量生产型 ) MPCVD, MWCVD, MPACVD, MPECVD, CVD金刚石
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微波等离子化学气相沉积系统,VKTR,WBDQC-4
型号/modelWBDQC-4可加热材料非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式等离子加热、纯微波加热、传统电加热、混合加热最大功率/ KW(连续、可调)4样品腔长度标配
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实验室专用XO-DLZ-1000W微波等离子体材料反应系统
电极放电,避免放电污染,能量转换效率高。 科学研究表明微波等离子体具有无电极、大面(体)积、低能耗、高效率和低成本等多种优点,比之其它电激励类型的等离子体有更高的活性。 微波等离子体的
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4100 MP-AES微波等离子体原子发射光谱仪
Agilent MP-AES(Microwave Plasma Atomic Emission Spectrometer)微波等离子体原子发射光谱仪, 亚 ppb 级 可采用空气
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Agilent 4210 MP-AES微波等离子体原子发射光谱仪
Agilent MP-AES(Microwave Plasma Atomic Emission Spectrometer)微波等离子体原子发射光谱仪,亚 ppb 级可采用空气或氮气运行通过微波
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微波灰化马弗炉/微波马弗炉
梯度升温或快速升温至1200℃。不经炭化真接灰化,一次完成测定。CEM PHOENIX BLACK 微波灰化马弗炉灰化测定仪仪器简介:Phoenix Black系列是CEM公司针对传统马弗炉
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等离子体增强化学气相沉积系统CVD
多功能电感耦合等离子体增强化学气相沉积系统(CVD)是用来制备高纯、高性能固体薄膜的主要技术,主要借助微波或射频的方法将目标气体进行电离,促进化学反应在较低的温度下进行,从而在基片上沉积出所期望的
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微波功率源(微波发生器)
技术参数: 1500W(MY1500S)微波功率源技术参数: 1.微波功率:0-1500W连续线性可调 2.输入电源:220V,50Hz 3.阳极电流显示 4.微波频率:2450MHz
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微波功率源(微波发生器)
1500W(MY1500S)微波功率源技术参数: 1.微波功率:0-1500W连续线性可调 2.输入电源:220V,50Hz 3.阳极电流显示 4.微波频率:2450MHz±50MHz 5.全
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多模式-微波烧结&冶金系统,WBDSY-6,VKTR
技术参数:型号/modelWBDSY-6可加热材料非易燃易爆的任何材料微波频率2.45GHZ±50MHz加热方式纯微波加热、传统电加热、混合加热、微波等离子zei大功率/KW6(可调)zei
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