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微电子和半导体检查系统 DM3 XL
快速扫描6英寸以下的大型组件,DM3 XL提供了独特的微距物镜。放大倍数为0.7倍,它可以立即捕获35.7毫米的视场-比其他常规扫描物镜大30%。微电子和半导体检查系统 DM3 XL 检测速度在
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微电子和半导体用检验系统 DM3 XL
在微电子和半导体行业中,检验、过程控制或缺陷和故障分析的速度至关重要。检测缺陷的速度越快,您做出响应的速度也就越快。视场宽敞 30% DM3 XL 检验系统凭借大视场帮助您的团队更快地识别缺陷
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等离子清洗用于半导体晶元微电子封装离子机
真空等离子技术: 等离子体在封闭的真空中活生生,与常压条件下相比,每个单位体积中的微粒数较少,这样就增加了粒子自由程长度,并相对减少了碰撞过程,因此,等离子体能量削弱的倾向减弱,可以
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简便光学平台光学实验平台光学隔振平台
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立式光学计(光学比较仪)
MC008-LG-1立式光学计(光学比较仪)是一种采用量块或标准零件与试件相比较的方式测量物体外形尺寸的仪器。主要用于五等精度量块,一级精度柱型规及各种圆柱形,球形,线形等物体的
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光学平台
技术参数:规格:1200*800*120 mm 1500*1000*140 mm 1800*1000*140 mm 可根据客户需求定做其它尺寸平台系统由光学实验平台主体、多维调整架、光源
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光学斩波器
产品介绍C-995 是一款专为实验室使用设计的,拥有多种用途的光学斩波器。C-995 配有五位LED 数码管数字显示器,通过控制器能直接将客户需要的斩波频率以数字的形式通过控制面板前端输入
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光学斩波器
l 宽频率范围:4Hz-5kHzl 频率分辨率:0.001Hz C-995基于微处理器控制的激光光学斩波器 与SRS公司的任何一款锁相放大器都能很好的兼容 光学斩波器C-995基于
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光学斩波器
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光学平台
粗糙度≤0.8μm,表面亚光处理变形量< 2μm /m2主要性能指标1.光学平台。长:3000mm;宽:1500mm;台面厚度:250mm;高:800mm;长宽高误差均不超过5%。2.载荷能力:不小于
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